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电子半导体生产清洗废水零排放又出新工艺

作者:lin发布时间:2022-04-24

  20世纪90年代以来,全球电子产业蓬勃发展,引起了世界各国政府的高度重视。经过多年的改革开放,中国电子工业已逐渐成为“世界电子产品制造业的加工厂”。在电子产品及相关金属产品的生产和回收过程中,产生了大量的电子废水。电子废水的成分不同,污染物的种类和含量也不同。其中大部分含有重金属离子,如铬、铜、镍、镉、锌、铅和汞、氰化物、一些酸性物质和碱性物质。废水中的重金属离子具有长期毒性和不可生物降解的特点,可在生物体内富集,造成生物功能障碍,严重危害生态环境和人类健康。电子工业废水作为一种新型废水,值得深入探讨。

  同时,半导体生产过程中还会产生大量的清洗废水。清洗废水中的主要污染物是高浓度悬浮颗粒物、酸碱污染和重金属离子。对传统废水零排放水解酸化+接触氧化工艺进行了扩展,采用MBR膜作为预处理的安全检查点,确保预处理出水水质优良稳定。膜浓缩系统配合催化氧化技术和ACF吸附模块,将浓缩的COD去除到可接受的范围,确保MVR和膜系统不易产生污染和堵塞,始终保持高效稳定运行。

  MBR膜生物反应器膜池保持了较高的微生物生物量浓度、较高的处理单元容积负荷和较小的占地面积。该膜系统能在很大程度上浓缩和减少废水,产率可达98%。能有效去除清洗废水中的铜、钒、镍、铬等重金属,处理效果明显。废水经膜处理后回用。系统配备实时在线监测装置,确保系统长期稳定运行。

  零排放:一种近零排放处理

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